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什么是誤差修正模型

浙江創(chuàng)芯申請OPC模型相關(guān)專利,有利于降低光學鄰近修正方法的誤差建立OPC模型。所述經(jīng)刻蝕層中圖形的輪廓清晰度更高,量測機臺所獲得的刻蝕后量測值準確度更高、精度更高,以刻蝕后量測值轉(zhuǎn)換而得的顯影后量測值為基礎(chǔ)所建立的OPC模型的誤差更小、精度更高,有利于降低光學鄰近修正方法的誤差,提高修正精度。

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中國電子科技集團公司第二十研究所申請大氣折射誤差修正專利,實現(xiàn)...中國電子科技集團公司第二十研究所申請一項名為“一種低維地區(qū)的大氣折射誤差修正方法及裝置”的專利,公開號CN 118707452 A,申請日期為2024年6月。專利摘要顯示,本發(fā)明提出了一種低維地區(qū)的大氣折射誤差修正方法及裝置,方法包括:在大氣球面分層條件下,基于分段模型描述說完了。

華能太倉發(fā)電申請基于超容儲能的預(yù)測混疊程度誤差修正方法及裝置...本公開實施例提供了一種基于超容儲能的預(yù)測混疊程度誤差修正方法及裝置,其中,該方法包括:獲取原始調(diào)頻信號并確定分解層數(shù);將原始調(diào)頻信號和分解層數(shù)輸入預(yù)測模型中得到該分解層數(shù)下的預(yù)測混疊程度,對預(yù)測混疊程度進行修正,并確定對應(yīng)的比值修正誤差序列和差值修正誤差序列是什么。

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廣立微:DE-FDC、DE-YMS軟件可實現(xiàn)產(chǎn)線設(shè)備運行監(jiān)控和實時調(diào)優(yōu)金融界3月25日消息,有投資者在互動平臺向廣立微提問:貴司旗下SemiMind 半導體大模型平臺接入DeepSeek - R1 大模型后,能否解決海量數(shù)據(jù)的實時獲取分析、及時并反饋正確結(jié)果以阻止損失或修正誤差、與客戶自有控制系統(tǒng)高度融合等技術(shù)難題?公司回答表示:公司的DE-FDC、D等會說。

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